- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C23C - Revêtement de matériaux métalliques; revêtement de matériaux avec des matériaux métalliques; traitement de surface de matériaux métalliques par diffusion dans la surface, par conversion chimique ou substitution; revêtement par évaporation sous vide, par pulvérisation cathodique, par implantation d'ions ou par dépôt chimique en phase vapeur, en général
- C23C 16/22 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
Détention brevets de la classe C23C 16/22
Brevets de cette classe: 402
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Applied Materials, Inc. | 16587 |
37 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
33 |
Lam Research Corporation | 4775 |
25 |
Kokusai Electric Corporation | 1791 |
20 |
ASM IP Holding B.V. | 1715 |
19 |
Novellus Systems, Inc. | 559 |
6 |
Global OLED Technology LLC | 590 |
5 |
Silcotek Corp. | 64 |
5 |
UChicago Argonne, LLC | 866 |
5 |
Versum Materials US, LLC | 591 |
5 |
Hitachi High-Tech Corporation | 4424 |
5 |
Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
4 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
4 |
Eugene Technology Co., Ltd. | 171 |
4 |
Jusung Engineering Co., Ltd. | 359 |
4 |
Xr Reserve LLC | 31 |
4 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | 6132 |
4 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
3 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
3 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
3 |
Autres propriétaires | 204 |